㈱エナテック　Enatek Ltd. Topsil FZウェーハ

　　　　LED

TOPSIL社製 FZ法シリコン結晶

　エナテックはデンマークにあるTOPSIL社の日本代理店
　としてFZ法によるシリコン単結晶の販売を行なっております。
　　　
　TOPSIL社は世界で唯一のFZ専業シリコンメーカとして
　中性子照射によるドーピングを初めて開発するなど、
　技術力には定評があります。
　　
　現在、FZシリコンは汚染物質の少なさから、既存のメモリー
　やDSPなどのICのみならず、MEMSやオプトセンサ分野にも
　幅広く使用されております。

　　　　TOPSIL社のホームページはこちら

　
　　　製品カタログは以下のリンクにて確認できます。

　

　　　　エナテックの営業スタッフによるデンマーク見聞録です
　　　　右の人魚姫の写真をクリックしてください

FZシリコン製品紹介 PFZ

　PFZ(Premium Float Zone Silicon)はシリコン単結晶の引き上げをドーパントガス中で
　行なう事によって、不純物をドーピングしたFZシリコンです。Topsil社では高品質・高純度
　FZシリコンのご提供が可能です。

	0.5 - 100 Ω cm	100 - 500 Ω cm	500 - 5000 Ω　cm

直径	100mm, 125mm, 150mm
結晶方位	＜100＞or <111>*
伝導型（ドーパント）	P(Boron) or N(Phosphorus)
抵抗率公差	± 8%	± 10%	± 20%
面内抵抗率分布	< 8%	< 10%	< 20%
成長縞	± 10%	± 10%	± 15%
キャリアライフタイム	> 500 μsec	> 1,000μsec	> 1,000μsec
酸素・炭素濃度	＜2.0 × 10¹⁶atoms/cm³

　　　　　　*6インチ<111>は開発中
　　　　　　
　　　　　　アプリケーション　　
　　　　　　　・Power discrete, diode　・Automotive power devices　・MEMS

FZシリコン製品紹介 HiRes Silicon

Hi-Res Siliconは、RF ICやRF MEMS向けに開発された高抵抗シリコンです。
現在のRFデバイスに求められている低損失、高効率の実現はもちろんの事、
これまで高周波帯で使われてきた化合物半導体に比べて、価格的にお安く
提供する事が可能です。すでに、RF MEMS用に採用された実績もあります。

仕様	保証値

直径	100mm, 125mm, 150mm
結晶方位	＜100＞or <111>*
伝導型（ドーパント）	P(Boron) or N(Phosphorus)
抵抗率	8,000 ～ 30,000 Ω cm
抵抗率公差	± 20%
面内抵抗率分布	< 25%
キャリアライフタイム	> 1,000µsec
酸素濃度	< 2.0 × 10¹⁶ atoms/cm³
炭素濃度	< 2.0 × 10¹⁶ atoms/cm³

　　　　　　　*6インチ<111>は開発中

　　　　　　　アプリケーション　　
　　　　　　　・MMIC 　・PIN diodes, HBT, Schottky diodes　・GHz power amplifier
　　　　　　　・RF-MEMS　for　Mobile phone, GPS, Base station

FZシリコン　製品紹介　NTDシリコン　

TOPSILは、世界で一番最初にNTDFZシリコン製品を市場に紹介しました。NTDシリコン
（中性子照射シリコン）は、抵抗率の均一性に優れ、電力用サイリスタ（シリコン制御整
流器）として使用されるようになり、半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電
分野まで広く利用されております。

仕様	保証値

直径	50mm,　75mm,　100mm, 125mm, 150mm
結晶方位	＜100＞or <111>*
伝導型（ドーパント）	N(Phosphorus)
抵抗率	5 ～　4,000 Ω cm
抵抗率公差	± 5～10％
面内抵抗率分布	< 3－8%
キャリアライフタイム	> 200µsec
酸素濃度	< 2.0 × 10¹⁶ atoms/cm³
炭素濃度	< 2.0 × 10¹⁶ atoms/cm³

　　

*6インチ<111>,は開発中。＞1000 ohm cm以上の5”、6”は現在製造しておりません。

　　　　　　　アプリケーション
　　　　　　　・High Power Electronics 　・Automotive Consumer 　・IGBT Inverters>1kW
　　　　　　　・Smart Power ・Low Power Thyristors

FZシリコン製品紹介　HiTran シリコン　　

不純物が非常に少なく、高抵抗、赤外線材料に最適のシリコンウェーハです。CZシリコン
ウェーハの光学用の酸素濃度（６.0×１0¹⁷ atoms/ｃｍ³）と比較して、HiTranシリコンは
５.0×10¹⁵ atoms/ｃｍ³と低く、透過率に優れております

結晶方位	（100）,(111)±0.5°
透過率	＞50%（30－10000　μm）
直径	1－200mm
形状	インゴット・球状・くさび状・弾丸状
仕上	As-Cut～鏡面
酸素・炭素濃度	＜1.0 × 10¹⁶ atoms/ｃｍ³

アプリケーション

・サーマルイメージシステム　・プリズム、グレーティング、グリズム、レンズ、ブランク
・受動赤外線検知器フィルター　・デブリスプロテクション用光学伝送窓

　　　上記以外にもライフタイムが平均3,000μsecのセンサ用のシリコン結晶や
　　　Liドリフトシリコンなども対応可能です。また、成膜・拡散をしたウエハの状態で
　　　出荷することも可能ですので、お気軽にお問合せ下さい。