半導体用ウェーハのお問い合わせは是非当社へ。

「SOIウェーハ」

CZ・FZウェーハを使用した新規作成での対応も可能です。
新規作成の場合,最小枚数は10枚程度からのご提供になります。

直径：3inch-12inch
SOI層：2-200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能）
SiO2(酸化膜）層：50nm-2um程度(0.1-10umも対応可能）
支持基板：300-725um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能）
数量：在庫品の場合は数枚程度から対応可能

＊お手持ちの基板をご支給いただきSOIウェーハに加工することも可能です。

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